电子电镀用纯水设备



产水量：5000L/H
水质：电阻率10MΩ.CM
制水工艺采用：反渗透+双纯水EDI技术
注：双纯水EDI为本公司专利技术，无需酸碱再生无需更换耗品，环保节能，取代离子交换工艺

制药厂用纯水设备



产水量：5000L/H
水质：电导率0.1μs/cm
制水工艺采用：反渗透+双纯水EDI技术
注：双纯水EDI为本公司专利技术，无需酸碱再生无需更换耗品，环保节能，取代二级反渗透工艺

化妆品厂用纯水设备



产水量：1000L/H
水质：电导率0.1μs/cm
制水工艺采用：反渗透+双纯水EDI技术
注：双纯水EDI为本公司专利技术，无需酸碱再生无需更换耗品，环保节能，取代离子交换工艺